雙束型聚焦離子束(Dual-beam FIB)

      Dual-beam FIB系統是一種在微奈米製程結構和材料分析上越來越受重視的技術。
尤其是dual-beam系統具有在離子束切割時，同時使用電子束來觀察切面情況的優勢，而且可以再配合能量散射光譜儀(EDS)的輔助進行成份分析。

 此技術除了可提供材料切割(橫截面觀察、定點蝕刻)外，也可進行材料添加(離子佈植、濺鍍Pt)的動作，亦可提供TEM試片的製備。

主體外觀

    Fig.2 工作示意圖

 Fig.3 規格表

 Fig.4 任一定點分析

 Fig.5 EDS成份分析

 Fig.6 TEM試片製備及成品拍攝